300GHz目標(biāo)電磁散射模擬測量關(guān)鍵技術(shù)研究

目錄
第1章緒論1
1.1研究背景1
1.2太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射模擬測量技術(shù)研究現(xiàn)狀與
發(fā)展趨勢(shì)6
1.2.1太赫茲頻段目標(biāo)特性成像測量技術(shù)7
1.2.2太赫茲頻段緊縮場測量技術(shù)13
1.2.3太赫茲頻段定標(biāo)技術(shù)19
1.3本書主要內(nèi)容與結(jié)構(gòu)安排22
第2章目標(biāo)雷達(dá)散射截面及其模擬測量技術(shù)25
2.1目標(biāo)雷達(dá)散射截面25
2.2目標(biāo)電磁散射中心分布27
2.3目標(biāo)電磁散射模擬測量技術(shù)28
2.3.1目標(biāo)RCS測量技術(shù)28
2.3.2目標(biāo)散射中心分布特征測量技術(shù)31
2.4太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射模擬測量關(guān)鍵技術(shù)34
本章小結(jié)37
第3章不規(guī)則定標(biāo)球體的RCS38
3.1非理想球體的RCS39
3.1.1粗糙面散射理論41
3.1.2不規(guī)則金屬球體散射特性的數(shù)值計(jì)算方法42
3.1.3仿真計(jì)算結(jié)果及分析49
3.2涂覆金屬球體的RCS59
3.2.1太赫茲頻段光滑金屬球的散射特性60
3.2.2金屬球體表面涂層的散射特性61
3.2.3仿真計(jì)算結(jié)果及分析63
3.3樣品加工與測試驗(yàn)證67
本章小結(jié)72
第4章300 GHz頻段緊縮場系統(tǒng)74
4.1緊縮場系統(tǒng)的分類與特點(diǎn)74
4.1.1緊縮場系統(tǒng)的分類74
4.1.2不同類型反射面緊縮場系統(tǒng)的特點(diǎn)83
4.2300 GHz頻段緊縮場系統(tǒng)設(shè)計(jì)89
4.2.1緊縮場系統(tǒng)設(shè)計(jì)90
4.2.2緊縮場系統(tǒng)輻射場特性仿真92
4.2.3緊縮場暗室設(shè)計(jì)97
4.3300 GHz頻段緊縮場系統(tǒng)誤差分析及控制要求99
4.3.1測量平面與等相位面不平行誤差分析99
4.3.2饋源位置對(duì)緊縮場靜區(qū)的影響104
4.3.3控制要求112
4.4300 GHz頻段緊縮場系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)樣機(jī)研制與性能檢測
驗(yàn)證113
4.4.1實(shí)驗(yàn)樣機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)113
4.4.2系統(tǒng)性能檢測原理及方法118
4.4.3300 GHz頻段緊縮場裝調(diào)及靜區(qū)平面波場測試122
4.4.4測試結(jié)論128
本章小結(jié)130
第5章200 GHz頻段收發(fā)測量系統(tǒng)131
5.1200 GHz頻段收發(fā)測量系統(tǒng)設(shè)計(jì)132
5.1.1工作體制132
5.1.2系統(tǒng)構(gòu)成133
5.1.3分系統(tǒng)設(shè)計(jì)指標(biāo)135
5.2200 GHz頻段收發(fā)測量系統(tǒng)樣機(jī)研制與檢測138
5.2.1系統(tǒng)原理框圖138
5.2.2系統(tǒng)硬件組成140
5.2.3關(guān)鍵技術(shù)及解決措施143
5.2.4分系統(tǒng)測試148
5.2.5系統(tǒng)測試151
5.3200 GHz頻段雷達(dá)成像實(shí)驗(yàn)152
5.3.1成像處理算法152
5.3.2成像處理實(shí)驗(yàn)153
5.3.3系統(tǒng)成像實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析157
本章小結(jié)161
第6章典型目標(biāo)電磁散射特性模擬測量實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證163
6.1測量目的163
6.2測量方案的選取164
6.3典型目標(biāo)電磁散射特性模擬測量系統(tǒng)及測量方案165
6.3.1測量系統(tǒng)165
6.3.2測量目標(biāo)168
6.3.3測量流程及注意事項(xiàng)168
6.4200 GHz頻段目標(biāo)電磁散射特性測量結(jié)果與分析171
6.4.1測量結(jié)果171
6.4.2測量結(jié)果分析183
6.5300 GHz頻段目標(biāo)電磁散射特性測量結(jié)果與分析184
6.5.1測量結(jié)果184
6.5.2測量結(jié)果分析195
本章小結(jié)196
第7章結(jié)論198
參考文獻(xiàn)201