光學真空鍍膜技術

前言
第1章 光學鍍膜基礎1
1.1光學薄膜理論基礎1
1.1.1平面電磁波在單一界面上的反射和折射1
1.1.2菲涅爾公式2
1.1.3光學薄膜特性的理論計算8
1.2光學薄膜設計12
1.2.1增透膜的設計12
1.2.2高反膜的設計16
1.2.3分光膜的設計18
1.2.4干涉濾光片21
1.3光學薄膜材料26
1.3.1金屬薄膜材料26
1.3.2介質(zhì)和半導體薄膜材料28
1.3.3金屬膜與介質(zhì)膜的比較33

第2章光學薄膜制備技術34
2.1真空及真空設備34
2.1.1真空技術知識及主要術語定義34
2.1.2獲得真空所需的設備40
2.1.3真空的測量47
2.2熱蒸發(fā)鍍膜工藝51
2.2.1熱蒸發(fā)鍍膜機理介紹51
2.2.2熱蒸發(fā)鍍膜工藝分類61
2.2.3離子束輔助沉積工藝介紹69
2.2.4影響熱蒸發(fā)鍍膜質(zhì)量的工藝參數(shù)74
2.3濺射鍍膜工藝85
2.3.1濺射鍍膜機理介紹85
2.3.2濺射鍍膜工藝分類86
2.3.3影響濺射鍍膜質(zhì)量的工藝參數(shù)114

第3章光學薄膜檢測技術118
3.1光學薄膜反射率和透過率測量118
3.1.1光譜分析測試系統(tǒng)原理118
3.1.2薄膜透過率測量120
3.1.3薄膜反射率測量121
3.1.4影響測量準確度的因素122
3.2光學薄膜厚度的測量123
3.2.1干涉法測量薄膜厚度123
3.2.2輪廓法測量薄膜厚度124
3.2.3其他測量方法125
3.3光學薄膜激光損傷閾值測量125
3.3.1光學薄膜損傷測量標準及判定125
3.3.2幾類激光損傷閾值測量方法介紹125
3.3.3激光損傷測試裝置126
3.3.4 1 on 1損傷測試標準過程127
3.4光學薄膜其他參數(shù)測量128
3.4.1薄膜的吸收和散射測量128
3.4.2薄膜材料折射率測量131
3.4.3薄膜散射測量133
3.4.4薄膜折射率測量135
參考文獻138