藝術(shù)品檢測(cè)分析技術(shù)手冊(cè)

定　價(jià)：￥68.00

作　者：	[荷] 米爾科·登萊烏著，王方譯
出版社：	清華大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787302594444	出版時(shí)間：	2021-12-01	包裝：
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：		字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　這是一本藝術(shù)品與文化遺產(chǎn)研究通用技術(shù)匯編，書(shū)中介紹了50種該領(lǐng)域常用的科學(xué)技術(shù)，以精煉的文字介紹了它們的基本原理、應(yīng)用方法、局限性和發(fā)展歷史?！端囆g(shù)品檢測(cè)分析技術(shù)手冊(cè)》也是一本為方便相關(guān)領(lǐng)域?qū)I(yè)人士理解這些技術(shù)而編寫(xiě)的實(shí)用類書(shū)籍。

作者簡(jiǎn)介

　　[荷]米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）——專業(yè)從事繪畫(huà)科技研究的繪畫(huà)保護(hù)修復(fù)師。1989年于阿姆斯特丹多拉·范丹齊格工作室完成保護(hù)修復(fù)與圖畫(huà)學(xué)（一種用于繪畫(huà)作者鑒識(shí)與評(píng)估的分析方法）訓(xùn)練，完成過(guò)一項(xiàng)17世紀(jì)荷蘭大師作品的保護(hù)修復(fù)實(shí)習(xí)工作，后于1991年創(chuàng)建了繪畫(huà)修復(fù)與研究工作室（ARRS）。曾為世界各地多家博物館、藝術(shù)品交易商和私人收藏家工作。著述頗豐，編撰有多種博物館目錄、國(guó)際同行評(píng)審期刊文章和會(huì)議論文。ARRS在1991-2006年曾經(jīng)是烏得勒支凱瑟琳修道院國(guó)立博物館（Rijksmuseum Catharijneconvent Utrecht）的戶外保護(hù)修復(fù)工作室。ARRS還針對(duì)保存狀況與鑒定問(wèn)題為凱瑟琳修道院的繪畫(huà)藏品制作過(guò)一份完整的清單。登萊烏于1993-2003年擔(dān)任阿姆斯特丹佳士得戶外繪畫(huà)保護(hù)修復(fù)師。ARRS為保護(hù)修復(fù)技術(shù)、藝術(shù)史與材料科學(xué)等學(xué)科建立了良好的溝通，并因此而享譽(yù)國(guó)際。ARRS憑著專業(yè)的知識(shí)與經(jīng)驗(yàn)，與拍賣商、私人收藏家、博物館保護(hù)修復(fù)師、藝術(shù)顧問(wèn)、法律顧問(wèn)、編目委員會(huì)和學(xué)生等各界人士建立了25年以上的合作關(guān)系，也是2012年、2014年、2016年和2018年AIA大會(huì)的組織者。

圖書(shū)目錄

目錄

zz晝光照相術(shù) / 1

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz紫外（UV）照相術(shù) / 3

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz紅外（IR）照相術(shù) / 6

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz紅外反射成像（IRR） / 8

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz紅外假彩色照相術(shù)（IRFC） / 11

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz紅外透射照相術(shù)（IRT） / 13

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz紫外誘導(dǎo)紅外熒光成像 / 16

珍妮弗·馬斯（Jennifer Mass）

zz光纖反射光譜法（FORS） / 19

達(dá)妮埃拉·平娜（Daniela Pinna）

zzX射線照相術(shù) / 22

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zzK-edge成像 / 25

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz同步輻射X射線熒光（sXRF）成像 / 28

戴維·瑟羅古德（David Thurrowgood）

zz光學(xué)相干層析術(shù)（OCT） / 31

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

zzX射線吸收近邊結(jié)構(gòu)譜法（XANES） / 35

珍妮弗·馬斯（Jennifer Mass）

zz掃描X射線粉末衍射（XRPD） / 39

弗雷德里克·范梅爾特（Frederik Vanmeert）

zz差式掃描量熱法（DSC） / 42

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

VIII

zz中子活化放射自顯影（NAA） / 46

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz中子射線照相術(shù)（NR） / 49

拉克倫·麥金尼斯（Lachlan Mclnnes）

zz中子成像（Nl） / 51

埃伯哈德·H.萊曼（Eberhard H. Lehmann）

zz拉曼（Raman）光譜法 / 54

達(dá)妮埃拉·平娜（Daniela Pinna）

zz傅里葉變換紅外光譜法（FTIR） / 58

達(dá)妮埃拉·平娜（Daniela Pinna）

zz同步輻射傅里葉變換紅外光譜法（SR-FTIR） / 63

珍妮弗·馬斯（Jennifer Mass）

zz掃描電子顯微鏡（SEM）結(jié)合能量色散X射線光譜法（EDS/EDX） / 67

達(dá)妮埃拉·平娜（Daniela Pinna）

zz實(shí)驗(yàn)室微X射線衍射（XRD） / 70

珍妮弗·馬斯（Jennifer Mass）

zz表面增強(qiáng)拉曼光譜法（SERS） / 74

馬爾科·利昂納（Marco Leona）

zz宏觀X射線熒光成像（MA-XRF） / 77

馬蒂亞斯·阿爾費(fèi)爾德（Matthias Alfeld）

zz便攜式X射線熒光（pXRF）斑點(diǎn)分析 / 81

珍妮弗·馬斯（Jennifer Mass）

zz共聚焦X射線熒光法（cXRF） / 85

馬蒂亞斯·阿爾費(fèi)爾德（Matthias Alfeld）

zz質(zhì)子X(jué)射線熒光分析（PIXE） / 89

洛倫佐·瓊蒂尼（Lorenzo Giuntini）、塞爾日·馬托（Serge Mathot）、弗朗切斯科·塔
切蒂（Francesco Taccetti）、毛里齊奧·弗雷泰納（Maurizio Vretenar）

zz微取樣 / 92

達(dá)妮埃拉·平娜（Daniela Pinna）

zz光學(xué)顯微鏡（OM）法 / 95

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz原子力顯微鏡（AFM）法 / 98

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

IX

zz紫外/可見(jiàn)光（UV/VIS）斷面顯微鏡法 / 101

蘇珊娜·布拉奇（Susanna Bracci）

zz斷面染色試驗(yàn)顯微分析 / 104

蘇珊娜·布拉奇（Susanna Bracci）

zz免疫試驗(yàn)法 / 107

達(dá)妮埃拉·平娜（Daniela Pinna）

zzX射線光電子能譜法（XPS） / 111

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

zz二次離子質(zhì)譜法（SIMS） / 115

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

zz氣相色譜-質(zhì)譜法（GC-MS） / 120

瑪麗亞·佩拉·科隆比尼（Maria Perla Colombini）

zz裂解氣相色譜-質(zhì)譜法（Py-GC/MS） / 124

瑪麗亞·佩拉·科隆比尼（Maria Perla Colombini）

zz電噴霧電離質(zhì)譜法（ESI-MS） / 128

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

zz直接溫度質(zhì)譜法（DTMS） / 131

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

zz熱重質(zhì)譜法（TGMS/TGA-MS） / 134

扎卡里·沃拉斯（Zachary Voras）

zz激光燒蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜法（LA-ICP-MS） / 137

奧古斯汀·多羅尼拉（Augustine Doronila）

zz基質(zhì)輔助激光解吸電離質(zhì)譜法（MALDI MS） / 140

伊內(nèi)茲·范德韋爾夫（Inez van der Werf）

zz電化學(xué)分析法 / 143

拉克倫·麥金尼斯（Lachlan Mclnnes）

zz鉛同位素分析 / 145

丹尼爾·法比安（Daniel Fabian）

zz太赫茲（THz）光譜法與成像 / 149

羅杰·劉易斯（Roger Lewis）

zz畫(huà)布經(jīng)緯密度法 / 151

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz放射性碳定年法 / 154

伊爾卡·哈伊達(dá)什（Irka Hajdas）

. 14C核彈峰值放射性碳定年法 / 156

伊爾卡·哈伊達(dá)什（Irka Hajdas）

zz樹(shù)木年代學(xué)法 / 158

米爾科·登萊烏（Milko den Leeuw）

zz作者簡(jiǎn)介 / 161
zz譯者后記 / 172