新型瞬態(tài)電真空半導(dǎo)體光電子器件與技術(shù)

第1章 緒論
1．1 光電子器件的瞬態(tài)
1．2 半導(dǎo)體紫外光發(fā)射器研究現(xiàn)狀與進(jìn)展
1．3 真空半導(dǎo)體器件瞬態(tài)優(yōu)勢(shì)與艾里光束的非線性瞬態(tài)調(diào)制技術(shù)
第2章 寬禁帶半導(dǎo)體電光器件瞬時(shí)激射
2．1 異質(zhì)結(jié)器件電瞬時(shí)發(fā)光機(jī)理
2．2 異質(zhì)結(jié)薄膜的MIS結(jié)紫外光發(fā)射器件
2．2．1 波長(zhǎng)調(diào)控機(jī)理
2．2．2 器件制備流程與工藝
2．2．3 異質(zhì)結(jié)薄膜MIS結(jié)制備
2．2．4 MIS結(jié)光發(fā)射器件的電泵浦隨機(jī)激光
2．3 波長(zhǎng)可調(diào)的紫外電致發(fā)光和隨機(jī)激光
2．3．1 MIS結(jié)光發(fā)射器件的制備
2．3．2 波長(zhǎng)可調(diào)的電致發(fā)光和隨機(jī)激光
2．3．3 電致發(fā)光機(jī)制與討論
2．4 MIS結(jié)激光二極管的瞬態(tài)技術(shù)
2．4．1 納米線陣列的水熱合成與物性
2．4．2 納米線性能提升
2．4．3 納米線的光學(xué)和電學(xué)輸運(yùn)性質(zhì)
2．4．4 納米線的電泵浦受激發(fā)射和機(jī)制
2．5 本章小結(jié)
第3章 電真空光電倍增與復(fù)合探測(cè)原理
3．1 電真空光電倍增器件復(fù)合探測(cè)的應(yīng)用背景與原理
3．1．1 復(fù)合探測(cè)的應(yīng)用背景
3．1．2 復(fù)合探測(cè)原理
3．2 微通道空間波導(dǎo)陽(yáng)極復(fù)合探測(cè)器件
3．2．1 復(fù)合波導(dǎo)陽(yáng)極結(jié)構(gòu)與工作原理
3．2．2 復(fù)合波導(dǎo)陽(yáng)極設(shè)計(jì)原理與特性
3．3 器件級(jí)電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、工藝與驗(yàn)證
3．3．1 器件級(jí)工藝與實(shí)現(xiàn)
3．3．2 復(fù)合探測(cè)原理性驗(yàn)證
3．4 微通道空間復(fù)合波導(dǎo)柵型復(fù)合探測(cè)器件
3．5 本章小結(jié)
第4章 EBAPS瞬時(shí)光電倍增器件
4．1 EBAPS的基本結(jié)構(gòu)及原理
4．2 入射光電子在電子倍增層中的散射模型
4．2．1 入射光電子的運(yùn)動(dòng)軌跡基本模型
4．2．2 散射截面
4．2．3 非彈性散射的能量損失
4．2．4 坐標(biāo)系變換
4．2．5 計(jì)算機(jī)模擬電子運(yùn)動(dòng)軌跡的物理模型
4．3 EBAPS中電子倍增層內(nèi)電子散射特性的影響因素
4．3．1 入射光電子能量對(duì)電子散射特性的影響研究
4．3．2 死層厚度與能量損失率的關(guān)系
4．3．3 摻雜濃度對(duì)倍增層內(nèi)電子散射特性的影響
4．3．4 入射光電子束直徑與電子散射特性的關(guān)系研究
4．3．5 倍增電子分布模擬研究
4．4 EBAPS電荷收集效率理論模擬與測(cè)試方法
4．4．1 基底均勻下EBAPS電荷收集效率理論模擬研究
4．4．2 基底梯度摻雜下EBAPS電荷收集效率理論模擬研究