低溫等離子體凈化有機(jī)廢氣技術(shù)

第1章?lián)]發(fā)性有機(jī)物與有機(jī)廢氣1
1.1揮發(fā)性有機(jī)物1
1.1.1揮發(fā)性有機(jī)物定義1
1.1.2揮發(fā)性有機(jī)物來(lái)源4
1.1.3揮發(fā)性有機(jī)物危害5
1.2我國(guó)揮發(fā)性有機(jī)物的污染狀況及法規(guī)6
1.3揮發(fā)性有機(jī)物源強(qiáng)核算7
1.3.1揮發(fā)性有機(jī)物產(chǎn)生源強(qiáng)的核算方法7
1.3.2揮發(fā)性有機(jī)物排放源強(qiáng)的核算方法8
1.4有機(jī)廢氣治理技術(shù)8
1.4.1冷凝法8
1.4.2膜分離法9
1.4.3吸收法9
1.4.4吸附法9
1.4.5熱氧化法9
1.4.6催化氧化法9
1.4.7生物過(guò)濾法10
1.4.8光催化法10
1.4.9低溫等離子體法10
參考文獻(xiàn)11

第2章等離子體與等離子體凈化有機(jī)廢氣12
2.1等離子體12
2.1.1等離子體定義與特征12
2.1.2等離子體分類(lèi)12
2.1.3低溫等離子體應(yīng)用14
2.2低溫等離子體凈化有機(jī)廢氣14
參考文獻(xiàn)15

第3章電子束凈化器17
3.1電子束原理17
3.2電子束反應(yīng)器類(lèi)型18
3.2.1電子束反應(yīng)器19
3.2.2電子束協(xié)同催化反應(yīng)器20
3.3電子束凈化有機(jī)廢氣影響參數(shù)23
3.3.1初始濃度23
3.3.2濕度23
3.3.3背景氣體23
3.3.4輻照劑量24
3.4電子束處理VOCs機(jī)理24
3.5工業(yè)應(yīng)用實(shí)例25
3.6展望26
參考文獻(xiàn)27

第4章輝光放電等離子體凈化器30
4.1輝光放電原理30
4.2輝光放電反應(yīng)器類(lèi)型32
4.2.1針板型放電32
4.2.2微空心陰極管放電33
4.2.3毛細(xì)管輝光放電35
4.3輝光放電凈化有機(jī)廢氣影響參數(shù)38
4.3.1進(jìn)氣流速和停留時(shí)間38
4.3.2初始濃度38
4.3.3針數(shù)的影響39
4.3.4能量密度39
4.4輝光放電處理VOCs機(jī)理40
4.5輝光等離子體處理系統(tǒng)的比較分析41
參考文獻(xiàn)42

第5章介質(zhì)阻擋放電等離子體凈化器45
5.1介質(zhì)阻擋放電的發(fā)展歷程45
5.2介質(zhì)阻擋放電原理46
5.3介質(zhì)阻擋放電反應(yīng)器47
5.3.1線(xiàn)筒型47
5.3.2筒筒型49
5.3.3板板型50
5.3.4催化劑填充型51
5.3.5吸附劑填充型54
5.3.6多級(jí)串聯(lián)型56
5.3.7多級(jí)并聯(lián)型58
5.4技術(shù)影響參數(shù)58
5.4.1氣體流速58
5.4.2VOCs初始濃度58
5.4.3水汽濕度59
5.4.4背景氣體成分60
5.4.5反應(yīng)器結(jié)構(gòu)60
5.4.6供給電壓和頻率61
5.4.7電極尺寸和材料61
5.4.8介質(zhì)性質(zhì)62
5.4.9溫度62
5.4.10催化劑種類(lèi)63
5.4.11催化劑位置64
5.4.12UV光源64
5.4.13能量密度65
5.4.14VOCs混合物65
5.5降解產(chǎn)物69
5.5.1氣態(tài)產(chǎn)物分析69
5.5.2液態(tài)和固態(tài)產(chǎn)物分析71
5.5.3能耗和能效72
5.6VOCs降解機(jī)理73
5.6.1活性粒子生成73
5.6.2VOCs的分解機(jī)理74
5.7工程案例78
5.7.1瀝青煙氣凈化78
5.7.2H2S和CS2凈化79
5.8結(jié)論和展望81
參考文獻(xiàn)81

第6章電暈放電等離子體凈化器90
6.1電暈放電原理91
6.2電暈放電等離子體反應(yīng)器類(lèi)型92
6.2.1正電暈和反電暈92
6.2.2脈沖電暈93
6.2.3線(xiàn)板電極96
6.2.4線(xiàn)筒電極97
6.2.5針板電極99
6.2.6線(xiàn)圈式電極100
6.2.7噴嘴式電極100
6.2.8刀板電極101
6.2.9串并聯(lián)多極系統(tǒng)102
6.3技術(shù)影響參數(shù)104
6.3.1反應(yīng)器結(jié)構(gòu)104
6.3.2電極形狀與材料104
6.3.3串并聯(lián)級(jí)數(shù)105
6.3.4峰值電壓106
6.3.5水汽濕度106
6.3.6背景氣體氧氣濃度107
6.3.7填充介質(zhì)107
6.3.8反應(yīng)器溫度108
6.4降解結(jié)果分析108
6.4.1氣態(tài)產(chǎn)物分析108
6.4.2液態(tài)或固態(tài)產(chǎn)物副產(chǎn)物分析110
6.5能耗與能效分析111
6.6技術(shù)與經(jīng)濟(jì)結(jié)果分析112
6.7電暈放電放電降解VOCs機(jī)理112
6.8工業(yè)應(yīng)用案例116
6.8.1煙氣凈化116
6.8.2造紙廢氣處理117
6.8.3垃圾焚燒尾氣凈化118
6.9電暈放電等離子體凈化器對(duì)比與展望118
參考文獻(xiàn)121

第7章滑動(dòng)弧放電等離子體凈化器127
7.1滑動(dòng)弧放電原理127
7.2滑動(dòng)弧放電等離子體反應(yīng)器129
7.2.1刀形電極129
7.2.2多電極132
7.2.3旋轉(zhuǎn)電弧放電135
7.2.4龍旋風(fēng)電弧放電138
7.2.5縮放電極電弧放電140
7.2.6滑動(dòng)弧放電聯(lián)合其他技術(shù)140
7.3技術(shù)參量143
7.3.1氣體流速143
7.3.2VOCs初始濃度144
7.3.3水汽濕度144
7.3.4背景氣體成分145
7.3.5反應(yīng)器結(jié)構(gòu)146
7.3.6供給電壓和頻率147
7.3.7電極尺寸和材料148
7.4降解產(chǎn)物148
7.4.1氣態(tài)產(chǎn)物分析148
7.4.2液態(tài)和固態(tài)產(chǎn)物分析150
7.5能耗和能效分析152
7.6滑動(dòng)弧放電等離子體降解VOCs機(jī)理153
7.7工程案例157
7.8比較和展望159
參考文獻(xiàn)162

第8章射頻放電等離子體凈化器167
8.1射頻放電原理167
8.2射頻放電等離子體反應(yīng)器169
8.2.1電感耦合等離子體反應(yīng)器（ICP）169
8.2.2電容耦合等離子體反應(yīng)器（CCP）171
8.3技術(shù)影響參數(shù)與降解結(jié)果173
8.3.1操作壓力173
8.3.2輸入功率174
8.3.3輔助氣體175
8.3.4電極材料和結(jié)構(gòu)175
8.3.5氣態(tài)產(chǎn)物結(jié)果分析176
8.3.6固態(tài)產(chǎn)物分析177
8.4射頻放電降解VOCs機(jī)理177
8.5展望178
參考文獻(xiàn)178

第9章微波等離子體凈化器181
9.1微波放電原理181
9.2微波放電等離子體反應(yīng)器類(lèi)型182
9.2.1常規(guī)微波等離子體炬射流182
9.2.2階梯型諧振腔微波等離子體射流184
9.2.3微波等離子體燃燒器186
9.2.4改進(jìn)的低壓微波等離子體反應(yīng)器186
9.2.5雙焦等離子體源微波反應(yīng)器187
9.3技術(shù)影響參數(shù)188
9.3.1微波功率188
9.3.2背景氣體189
9.3.3初始濃度189
9.3.4噴嘴內(nèi)徑與氣體流速190
9.3.5水蒸氣的含量190
9.3.6處理溫度190
9.4產(chǎn)物分析191
9.4.1氣態(tài)產(chǎn)物191
9.4.2固態(tài)產(chǎn)物191
9.5微波放電降解VOCs機(jī)理192
9.6不同微波等離子體放電處理效果評(píng)價(jià)193
參考文獻(xiàn)194

第10章等離子體協(xié)同光催化技術(shù)197
10.1等離子體-紫外光催化技術(shù)機(jī)理197
10.2等離子體-紫外光催化反應(yīng)器198
10.3工藝影響參數(shù)199
10.3.1入口濃度199
10.3.2濕度200
10.3.3輸入功率200
10.3.4處理順序200
10.4工程案例201
10.5總結(jié)與展望202
參考文獻(xiàn)203

第11章吸附與等離子體組合凈化技術(shù)204
11.1吸附與等離子體組合關(guān)鍵技術(shù)204
11.1.1吸附-分離濃縮-等離子體分解204
11.1.2吸附富集-等離子體原位分解再生205
11.2吸附與等離子體耦合機(jī)制209
11.3凈化效果影響因素分析210
11.3.1吸附劑210
11.3.2解吸氣體210
11.3.3放電功率211
11.3.4放電處理時(shí)間211
11.3.5污染物種類(lèi)和濃度211
11.4工程實(shí)例212
11.4.1吸附-分離濃縮-等離子體分解系統(tǒng)的應(yīng)用212
11.4.2吸附富集-等離子體原位分解再生系統(tǒng)的應(yīng)用212
11.5結(jié)論與展望213
參考文獻(xiàn)213

第12章等離子體與生物過(guò)濾組合處理技術(shù)215
12.1等離子體與生物過(guò)濾耦合機(jī)理215
12.2等離子體與生物過(guò)濾組合反應(yīng)器結(jié)構(gòu)216
12.2.1塔式等離子體-生物過(guò)濾組合系統(tǒng)217
12.2.2濾池式等離子體-生物過(guò)濾組合系統(tǒng)218
12.3工藝影響參數(shù)219
12.3.1污染物濃度219
12.3.2運(yùn)行和停留時(shí)間219
12.4結(jié)論和展望220
參考文獻(xiàn)220

第13章等離子體分解烷類(lèi)氣體222
13.1含烷類(lèi)氣體的危害222
13.2等離子體處理含烷類(lèi)氣體系統(tǒng)222
13.2.1電暈放電222
13.2.2介質(zhì)阻擋放電223
13.2.3滑動(dòng)弧放電223
13.2.4射頻放電224
13.3技術(shù)影響參數(shù)225
13.3.1初始濃度225
13.3.2氣體流量225
13.3.3催化劑225
13.3.4溫度226
13.3.5比能耗226
13.3.6放電功率227
13.3.7烴類(lèi)化學(xué)結(jié)構(gòu)227
13.3.8空氣濕度227
13.3.9氧氣濃度227
13.3.10載氣228
13.4降解產(chǎn)物與降解機(jī)理228
13.5展望229
參考文獻(xiàn)229

第14章等離子體凈化醛類(lèi)氣體231
14.1含醛廢氣的來(lái)源與處理231
14.2等離子體處理含醛氣體系統(tǒng)231
14.2.1電暈放電231
14.2.2介質(zhì)阻擋放電232
14.2.3高頻電容耦合放電232
14.3凈化技術(shù)影響參數(shù)232
14.3.1反應(yīng)器結(jié)構(gòu)232
14.3.2電壓233
14.3.3VOCs初始濃度234
14.3.4背景氣體成分234
14.3.5VOCs化學(xué)結(jié)構(gòu)235
14.3.6催化劑236
14.3.7氣體流速237
14.3.8溫度237
14.3.9輸入能量238
14.4降解產(chǎn)物與降解機(jī)理239
14.5展望242
參考文獻(xiàn)243

第15章等離子體凈化苯系物245
15.1苯系物揮發(fā)性有機(jī)物的來(lái)源與處理245
15.1.1來(lái)源245
15.1.2危害245
15.1.3處理技術(shù)246
15.2等離子體處理苯系物系統(tǒng)247
15.2.1電暈放電247
15.2.2介質(zhì)阻擋放電248
15.2.3滑動(dòng)弧放電249
15.2.4射頻放電249
15.2.5輝光放電249
15.2.6表面放電250
15.3凈化技術(shù)影響參數(shù)250
15.3.1施加電壓與電場(chǎng)強(qiáng)度250
15.3.2輸入電流251
15.3.3頻率252
15.3.4輸入能耗252
15.3.5反應(yīng)器類(lèi)型253
15.3.6反應(yīng)器尺寸與材料254
15.3.7電極形狀255
15.3.8電極材料255
15.3.9載氣256
15.3.10氣體停留時(shí)間和氣體流速256
15.3.11苯系物種類(lèi)257
15.3.12單獨(dú)VOCs與混合VOCs258
15.3.13初始濃度258
15.3.14濕度259
15.3.15催化劑260
15.3.16各反應(yīng)條件影響程度比較264
15.4降解過(guò)程產(chǎn)物與降解機(jī)理264
15.4.1苯降解機(jī)理264
15.4.2甲苯降解機(jī)理266
15.4.3對(duì)二甲苯降解機(jī)理271
15.4.4鄰二甲苯降解機(jī)理272
15.4.5苯乙烯降解機(jī)理272
15.5風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)274
15.5.1苯降解副產(chǎn)物274
15.5.2苯乙烯和鄰二甲苯降解副產(chǎn)物275
15.6應(yīng)用測(cè)試275
參考文獻(xiàn)276

第16章等離子體凈化醇類(lèi)氣體284
16.1醇類(lèi)氣體的特征與凈化284
16.1.1來(lái)源與特征284
16.1.2凈化技術(shù)284
16.2等離子體處理含醇?xì)怏w系統(tǒng)285
16.2.1電暈放電285
16.2.2介質(zhì)阻擋放電286
16.2.3微波放電287
16.2.4射頻放電287
16.3降解產(chǎn)物與降解機(jī)理287
16.4凈化技術(shù)影響參數(shù)289
16.4.1初始濃度289
16.4.2溫度289
16.4.3含水量289
16.4.4連續(xù)吸附/再生和連續(xù)處理290
16.4.5輸入功率290
16.4.6催化劑291
16.4.7氣體流速291
16.4.8載氣成分292
16.4.9放電電壓292
16.4.10放電頻率292
16.4.11背景氣體292
16.5展望292
參考文獻(xiàn)293

第17章等離子體凈化酮類(lèi)氣體295
17.1含酮?dú)獾膩?lái)源與處理295
17.2等離子體處理含酮?dú)怏w系統(tǒng)295
17.2.1電暈放電295
17.2.2介質(zhì)阻擋放電296
17.2.3高壓輝光放電296
17.3凈化技術(shù)影響參數(shù)296
17.3.1反應(yīng)器結(jié)構(gòu)296
17.3.2電流298
17.3.3濕度298
17.3.4背景氣體成分299
17.3.5輸入功率299
17.3.6能量密度300
17.3.7催化劑301
17.4降解產(chǎn)物與降解機(jī)理302
17.5展望305
參考文獻(xiàn)306

第18章等離子體凈化含氟烴類(lèi)化合物308
18.1含氟揮發(fā)性有機(jī)物的來(lái)源與處理308
18.2等離子體處理含氟揮發(fā)性有機(jī)物系統(tǒng)308
18.2.1介質(zhì)阻擋放電308
18.2.2滑動(dòng)弧放電309
18.2.3電暈放電309
18.2.4微波放電309
18.2.5輝光放電309
18.3凈化技術(shù)影響參數(shù)310
18.3.1施加電壓310
18.3.2輸入能量311
18.3.3反應(yīng)器結(jié)構(gòu)311
18.3.4背景氣體312
18.3.5氣體流速312
18.3.6初始濃度313
18.3.7停留時(shí)間313
18.3.8催化劑314
18.3.9濕度314
18.3.10溫度314
18.4降解過(guò)程產(chǎn)物與降解機(jī)理315
18.4.1C2F6的分解機(jī)理315
18.4.2CCl2-CClF2的分解機(jī)理315
18.4.3CF4的分解機(jī)理316
18.4.4C2H2F4的分解機(jī)理317
18.4.5SO2F2的分解機(jī)理319
18.4.6CF2Br2的分解機(jī)理319
18.4.7NF3的分解機(jī)理320
18.4.8SF6的分解機(jī)理322
18.5展望322
參考文獻(xiàn)323

第19章等離子體凈化含氯烴類(lèi)化合物325
19.1含氯揮發(fā)性有機(jī)物的來(lái)源與處理325
19.2等離子體處理含氯揮發(fā)性有機(jī)物系統(tǒng)325
19.2.1電暈放電325
19.2.2介質(zhì)阻擋放電326
19.2.3滑動(dòng)弧放電326
19.2.4微波放電326
19.2.5輝光放電326
19.3凈化技術(shù)影響參數(shù)327
19.3.1背景氣體327
19.3.2溫度327
19.3.3初始濃度327
19.3.4含水量328
19.3.5放電功率328
19.3.6氣體流速329
19.3.7催化劑330
19.3.8能量密度330
19.3.9處理時(shí)間331
19.3.10施加電壓332
19.3.11脈沖與頻率332
19.3.12污染物種類(lèi)333
19.3.13氣體檢測(cè)器管子長(zhǎng)度333
19.4降解機(jī)理分析333
19.4.1C2HCl3分解機(jī)理333
19.4.2CH2Cl2分解機(jī)理335
19.4.3C2H3Cl3分解機(jī)理335
19.4.4CCl4和CHCl3分解335
19.5副產(chǎn)物風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)337
參考文獻(xiàn)337

第20章等離子體凈化含氮惡臭氣體341
20.1含氮類(lèi)惡臭氣的來(lái)源與特征341
20.2含氮類(lèi)惡臭氣的處理技術(shù)341
20.3等離子體處理含氮惡臭氣體系統(tǒng)342
20.3.1電暈放電342
20.3.2介質(zhì)阻擋放電342
20.3.3滑動(dòng)弧放電343
20.3.4微等離子體343
20.4凈化技術(shù)影響參數(shù)343
20.4.1反應(yīng)器結(jié)構(gòu)343
20.4.2電壓345
20.4.3背景氣體成分345
20.4.4氣體流速346
20.4.5VOCs初始濃度346
20.4.6溫度347
20.4.7濕度348
20.4.8催化劑349
20.5降解產(chǎn)物與降解機(jī)理350
20.6展望353
參考文獻(xiàn)353

第21章等離子體凈化含硫惡臭氣體355
21.1含硫類(lèi)惡臭氣的來(lái)源與特征355
21.2含硫類(lèi)惡臭氣的處理技術(shù)355
21.3等離子體處理含硫惡臭氣體系統(tǒng)356
21.3.1電暈放電356
21.3.2介質(zhì)阻擋放電356
21.3.3滑動(dòng)弧放電357
21.3.4射頻放電358
21.4凈化技術(shù)影響參數(shù)358
21.4.1反應(yīng)器結(jié)構(gòu)358
21.4.2電壓359
21.4.3電源頻率360
21.4.4氣體流速361
21.4.5背景氣體成分361
21.4.6VOCs初始濃度362
21.4.7濕度363
21.4.8溫度363
21.4.9催化劑364
21.5降解產(chǎn)物與降解機(jī)理365
21.5.1硫化氫365
21.5.2硫醇類(lèi)366
21.5.3二硫化碳368
21.5.4二甲基硫368
21.6工程案例369
21.7展望369
參考文獻(xiàn)370