離子膜燒堿控制技術(shù)

定　價(jià)：￥98.00

作　者：	高國(guó)光，武平麗等著
出版社：	化學(xué)工業(yè)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	工業(yè)技術(shù) 化學(xué)工業(yè) 一般問題

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ISBN：	9787122226143	出版時(shí)間：	2015-05-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	376	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

《離子膜燒堿控制技術(shù)》針對(duì)25萬噸-年離子膜燒堿裝置，介紹了裝置中所用到的自動(dòng)化儀表和過程控制系統(tǒng)，分析了離子膜燒堿的生產(chǎn)工藝流程、設(shè)備裝置特點(diǎn)以及生產(chǎn)控制要求、運(yùn)行工況要求與技術(shù)性能指標(biāo)要求等，制定了離子膜燒堿裝置的總體控制方案；介紹了DCS硬件配置設(shè)計(jì)和軟件組態(tài)編程、離子膜燒堿裝置中樹脂塔的DCS邏輯控制程序開發(fā)、整個(gè)裝置的安全聯(lián)鎖控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)，提供了從硬件到軟件的離子膜燒堿裝置控制的全方位解決方案。
　　《離子膜燒堿控制技術(shù)》可作為氯堿行業(yè)技術(shù)人員的培訓(xùn)或參考用書，也可作為高等院校自動(dòng)化專業(yè)的輔助教材及相關(guān)技術(shù)人員的參考用書。

作者簡(jiǎn)介

高國(guó)光，北京和利時(shí)集團(tuán)，高級(jí)工程師，　　1990年7月畢業(yè)于武漢化工學(xué)院生產(chǎn)過程自動(dòng)化專業(yè)。畢業(yè)后到開封東大化工集團(tuán)工作，主要從事化工項(xiàng)目自控專業(yè)設(shè)計(jì)、安裝、調(diào)試及維護(hù)。2004年8月調(diào)入北京和利時(shí)系統(tǒng)工程有限公司，先后在重大項(xiàng)目部、技術(shù)規(guī)劃管理部、石化技術(shù)部工作。完成了華西村綜合利用熱電廠、開封晉開1830及硝酸、包頭海平面36萬噸燒堿及40萬噸PVC、東營(yíng)協(xié)發(fā)化工50萬離子膜燒堿等100多個(gè)DCS項(xiàng)目。制定了《石化行業(yè)控制系統(tǒng)工程實(shí)施標(biāo)準(zhǔn)》等企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。主持完成了“離子膜燒堿裝置自動(dòng)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)與研究”省級(jí)科研成果。完成了“反應(yīng)釜（罐）自動(dòng)精確加料的控制算法”、“加氫反應(yīng)釜釜溫與吸氫速率的控制算法”專項(xiàng)研究，解決了行業(yè)控制難題。
　　發(fā)表了《HCS-2000型CDS在離子膜燒堿生產(chǎn)中的應(yīng)用》、《DCS對(duì)樹脂塔的程序控制》、《國(guó)產(chǎn)大型DCS系統(tǒng)在鹽化工行業(yè)的應(yīng)用》、《離子膜電解槽電壓檢測(cè)方案及其優(yōu)化》、《MACS DCS在50萬t-a離子膜法燒堿裝置中的應(yīng)用》、《An Optimization Control Method of Waste Incinerator for Power Generation》等13篇論文。其中有2篇論文被EI數(shù)據(jù)庫收錄，1篇獲得2010中國(guó)自動(dòng)化領(lǐng)十大優(yōu)秀論文獎(jiǎng)，1篇獲河南省第十屆自然科學(xué)優(yōu)秀學(xué)術(shù)論文獎(jiǎng)勵(lì)。參編《過程控制及自動(dòng)化儀表》，主編《流程工業(yè)工程控制》2部高職高專教材，主持編著《過程控制工程實(shí)施教材》。

圖書目錄

第1章緒論
1.1 氯堿工業(yè)概況及特點(diǎn)
1.1.1 氯堿工業(yè)概況
1.1.2 我國(guó)氯堿工業(yè)特點(diǎn)
1.2 離子膜燒堿裝置主要設(shè)備簡(jiǎn)介
1.2.1 一次鹽水精制主要設(shè)備
1.2.2 二次鹽水精制主要設(shè)備
1.2.3 電解主要設(shè)備
1.2.4 氯氫處理主要設(shè)備
1.2.5 氯化氫合成與高純鹽酸的主要設(shè)備
1.2.6 氯氣液化及包裝主要設(shè)備
1.2.7 蒸發(fā)及固堿主要設(shè)備
1.3 離子膜燒堿裝置控制現(xiàn)狀

第2章離子膜燒堿工藝及控制要求
2.1 一次鹽水精制
2.1.1 一次鹽水精制反應(yīng)原理
2.1.2 一次鹽水精制工藝簡(jiǎn)介
2.1.3 一次鹽水精制控制要求
2.2 二次鹽水精制
2.2.1 二次鹽水精制反應(yīng)原理
2.2.2 二次鹽水精制工藝簡(jiǎn)介
2.2.3 二次鹽水精制控制要求
2.3 電解及脫氯
2.3.1 電解及脫氯反應(yīng)原理
2.3.2 電解及脫氯工藝簡(jiǎn)介
2.3.3 電解及脫氯控制要求
2.4 氯氫處理
2.4.1 氯氫處理化學(xué)原理
2.4.2 氯氫處理工藝簡(jiǎn)介
2.4.3 氯氫處理控制要求
2.5 鹽酸合成
2.5.1 鹽酸合成化學(xué)原理
2.5.2 鹽酸合成工藝簡(jiǎn)介
2.5.3 鹽酸合成控制要求
2.6 燒堿蒸發(fā)與固堿
2.6.1 燒堿蒸發(fā)與固堿化學(xué)原理
2.6.2 燒堿蒸發(fā)與片堿工藝簡(jiǎn)介
2.6.3 燒堿蒸發(fā)與片堿控制要求

第3章離子膜燒堿控制方案
3.1 單回路控制系統(tǒng)
3.2 主要復(fù)雜控制回路
3.2.1 進(jìn)電解槽鹽水流量的控制
3.2.2 電解槽加酸量的控制
3.2.3 淡鹽水循環(huán)流量控制
3.2.4 電解槽出口總管氯氣氫氣的差壓控制
3.2.5 陰極液加水（堿濃度）的控制
3.2.6 電解槽電流的升降及其控制
3.2.7 氯壓機(jī)的控制
3.2.8 鹽酸合成與燒堿蒸發(fā)的控制
3.3 DCS對(duì)樹脂塔的程序順控方案
3.3.1 樹脂塔工藝簡(jiǎn)述
3.3.2 離子交換樹脂塔的操作程序
3.3.3 報(bào)警和聯(lián)鎖
3.3.4 斷電時(shí)的操作
3.3.5 閥門聯(lián)鎖
3.4 電解槽槽電壓檢測(cè)方案
3.4.1 單元槽電壓的構(gòu)成
3.4.2 槽電壓檢測(cè)難點(diǎn)及常規(guī)檢測(cè)方案
3.4.3 MACS系統(tǒng)對(duì)槽電壓的檢測(cè)方案
3.4.4 槽電壓檢測(cè)針孔探測(cè)器的功能
3.5 安全聯(lián)鎖控制方案
3.5.1 電解聯(lián)鎖控制方案
3.5.2 整流全停聯(lián)鎖方案
3.5.3 電解極化電源聯(lián)鎖方案
3.5.4 氯壓機(jī)聯(lián)鎖方案
3.5.5 蒸發(fā)聯(lián)鎖
3.5.6 其他聯(lián)鎖

第4章離子膜燒堿儀表
4.1 溫度儀表
4.1.1 溫度檢測(cè)儀表的分類
4.1.2 測(cè)溫儀表的性能特點(diǎn)
4.1.3 測(cè)溫儀表的選用原則
4.1.4 離子膜裝置中的測(cè)溫儀表
4.1.5 測(cè)溫原件及儀表的安裝
4.2 壓力儀表
4.2.1 壓力的概念、單位及表示方法
4.2.2 常用的壓力檢測(cè)儀表
4.2.3 壓力檢測(cè)儀表的選用
4.2.4 離子膜裝置中的壓力儀表
4.2.5 壓力表、變送器的安裝
4.3 流量?jī)x表
4.3.1 流量檢測(cè)概述
4.3.2 流量?jī)x表的分類
4.3.3 常用流量?jī)x表選型
4.3.4 離子膜裝置中的流量?jī)x表
4.3.5 流量?jī)x表的安裝
4.4 物位儀表
4.4.1 物位的概念及物位檢測(cè)意義
4.4.2 物位儀表的分類
4.4.3 常用物位檢測(cè)儀表的選用
4.4.4 離子膜裝置中的物位儀表
4.4.5 物位儀表的安裝
4.5 分析儀表
4.5.1 分析儀表的分類
4.5.2 分析儀表的一般組成
4.5.3 分析儀表的選型
4.5.4 離子膜裝置中的分析儀表
4.6 執(zhí)行器
4.6.1 調(diào)節(jié)閥的組成及分類
4.6.2 調(diào)節(jié)閥的選擇
4.6.3 閥門附件
4.6.4 離子膜裝置中的執(zhí)行器
4.6.5 調(diào)節(jié)閥的安裝和維護(hù)
4.7 爆炸危險(xiǎn)場(chǎng)所儀表電器安全
4.7.1 爆炸性氣體環(huán)境危險(xiǎn)區(qū)域劃分
4.7.2 爆炸性氣體混合物的分類、分級(jí)、分組
4.7.3 爆炸性氣體環(huán)境儀表電氣設(shè)備的選型
4.7.4 爆炸危險(xiǎn)場(chǎng)所儀表電器安全
4.7.5 安全柵

第5章離子膜工程DCS硬件配置方案
5.1 DCS硬件系統(tǒng)簡(jiǎn)介
5.1.1 DCS系統(tǒng)定義
5.1.2 DCS系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
5.1.3 DCS系統(tǒng)功能
5.1.4 國(guó)內(nèi)常見DCS廠商及品牌
5.2 和利時(shí)（Hollysys）公司的MACS系統(tǒng)
5.2.1 HOLLiAS MACS分布式控制系統(tǒng)概述
5.2.2 MACSS系統(tǒng)整體結(jié)構(gòu)
5.3 離子膜燒堿裝置DCS硬件配置方案
5.3.1 和利時(shí)DCS在氯堿鹽化工行業(yè)應(yīng)用情況
5.3.2 SM現(xiàn)場(chǎng)控制站硬件產(chǎn)品簡(jiǎn)介及其配置要點(diǎn)
5.3.3 DCS系統(tǒng)輸入-輸出測(cè)點(diǎn)統(tǒng)計(jì)
5.3.4 I-O模塊的配置
5.3.5 控制柜成套設(shè)計(jì)
5.3.6 離子膜燒堿裝置操作站硬件配置
5.3.7 系統(tǒng)網(wǎng)絡(luò)設(shè)計(jì)
5.3.8 系統(tǒng)供電設(shè)計(jì)
5.4 輔助機(jī)柜盤臺(tái)布置與接線圖
5.4.1 盤面布置圖
5.4.2 柜內(nèi)接線圖
5.5 DCS系統(tǒng)柜布置與接線圖
5.5.1 柜內(nèi)布置圖
5.5.2 外部接線圖

第6章離子膜工程DCS軟件組態(tài)編程
6.1 DCS的軟件體系
6.1.1 現(xiàn)場(chǎng)控制站的軟件系統(tǒng)
6.1.2 操作站的軟件系統(tǒng)
6.1.3 MACS Ⅴ系統(tǒng)軟件的組成及功能
6.2 DCS的組態(tài)方法
6.2.1 組態(tài)軟件主要解決的問題
6.2.2 組態(tài)的內(nèi)容
6.2.3 MACS Ⅴ系統(tǒng)軟件組態(tài)步驟
6.3 離子膜燒堿裝置控制工程組態(tài)
6.3.1 新建工程
6.3.2 工程畫面組態(tài)
6.3.3 設(shè)備組態(tài)
6.3.4 數(shù)據(jù)庫的編輯及編譯
6.3.5 報(bào)表組態(tài)
6.3.6 服務(wù)器算法組態(tài)
6.3.7 生成控制器算法工程
6.4 離子膜燒堿裝置控制器算法組態(tài)
6.4.1 控制器算法組態(tài)概述
6.4.2 控制器算法軟件及功能
6.4.3 單回路控制系統(tǒng)組態(tài)
6.4.4 聯(lián)鎖及主要復(fù)雜控制回路組態(tài)
6.4.5 樹脂塔順控方案組態(tài)

第7章離子膜燒堿整流
7.1 離子膜整流系統(tǒng)的組成及工作原理
7.1.1 整流系統(tǒng)組成
7.1.2 整流系統(tǒng)工作原理
7.2 整流系統(tǒng)設(shè)計(jì)
7.2.1 整流裝置主要參數(shù)計(jì)算
7.2.2 整流柜內(nèi)部元件的選取及制造要求
7.2.3 整流柜的保護(hù)措施
7.2.4 晶閘管整流裝置控制柜
7.2.5 計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)
7.2.6 極化整流器
7.3 整流器輔助設(shè)備
7.3.1 整流變壓器
7.3.2 純水冷卻裝置
7.3.3 直流母線式大電流隔離器
7.3.4 直流大電流傳感器
7.4 整流所的常見事故類型及處理
7.4.1 整流工段易出現(xiàn)的故障類型
7.4.2 整流裝置的運(yùn)行管理
7.4.3 整流工段可能出現(xiàn)的異常情況及事故處理
7.4.4 整流變壓器的運(yùn)行管理及檢修維護(hù)
7.4.5 整流變壓器可能出現(xiàn)的異常情況及事故處理
7.4.6 整流高壓開關(guān)柜的運(yùn)行管理
附錄1 ××××公司20萬噸-年離子膜燒堿項(xiàng)目DCS控制系統(tǒng)招標(biāo)文件
附錄2 DCS系統(tǒng)主要供應(yīng)商及其產(chǎn)品介紹
附錄3 離子膜燒堿裝置數(shù)據(jù)庫IO表
附錄4 現(xiàn)場(chǎng)控制站機(jī)柜布置與接線圖
參考文獻(xiàn)