本書主要論述用于非半導體材料表面改性的PlIl、PIIID技術相關物理與技術問題，關鍵部件及處理工藝問題。本書的主要內容包括PIIID技術發(fā)展概況，基礎理論，PIIID設備關鍵部件設計，PIIID鞘層動力學計算機數值模擬與應用以及機械零件的PIIID復合、批量處理工藝與應用等。為了清楚PlIl與PIIID概念之間的區(qū)別，書中提到的PlIl一般是指采用氣體等離子體的PlIl技術，在PlIl過程中，離子注入是材料表面改性的主要因素；書中提到的PIIID一般是指采用金屬等離子體與氣體等離子體相結合的PIIID技術，在PIIID過程中，離子注入與薄膜沉積相結合的處理是材料表面改性的主要因素。本書稱PIIID為等離子體浸泡式離子注入與沉積技術是因為考慮到PIIID處理過程的特點是：被處理零件完全浸泡在等離子體中，處理過程常采用離子注入與薄膜沉積相結合的工藝。 本書特別列出了近十幾年來等離子體浸泡式離子注入與沉積（PIIID）技術在下列七個方面取得的重大進展：（1）脈沖寬度可調、大面積、強流陰極弧金屬等離子體源；（2）高電壓下慢速自轉與公轉的油冷靶臺與組合夾具；（3）Pill過程鞘層動力學計算機理論數值模擬技術；（4）減少、抑制二次電子發(fā)射；（5）大功率固態(tài)電路脈沖調制器技術；（6）PIIID內表面處理技術；（7）PIIID復合、批量處理技術。由此可見，在短短十幾年時間里，PIIID技術在基本理論、關鍵部件的研制、處理工藝、應用領域擴展等方面都有了非常迅速的發(fā)展；PIIID技術正在以中、小規(guī)模，復合、批量處理方式成功地用于航空航天、高速列車、汽車等多種領域。這表明：PIIID技術是一種不可缺少、不可替代的先進的表面工程技術，它具有非常美好的商業(yè)應用前景。
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